異味凈化裝置UV光氧催化激光打標打磨煙霧
簡要描述:UV光催化設(shè)備無需惡臭氣體進行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30度~95度之間,濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作,無需添加其他物質(zhì)及藥劑參與處理。異味凈化裝置UV光氧催化激光打標打磨煙霧
產(chǎn)品型號:
所屬分類:激光打標/雕刻/鐳射
更新時間:2023-10-26
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
異味凈化裝置UV光氧催化激光打標打磨煙霧
異味凈化裝置UV光氧催化激光打標打磨煙霧
UV光催化設(shè)備的特點:
1、UV光催化設(shè)備能高效去除揮發(fā)性有機物、硫化氫、氨氣等無機物類污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率可達99%以上,脫臭效果大大優(yōu)于國家頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93)
2、UV光催化設(shè)備可適應(yīng)于絕大部分高濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理,通過合理的模塊配置可廣泛應(yīng)用于:煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站、污水泵房、中央空調(diào)等惡臭氣體的脫臭滅菌凈化處理??擅刻?4小時連續(xù)工作,運行穩(wěn)定可靠。
3、UV光催化設(shè)備無任何機械裝置,無運動噪音,無需專人管理和日常維護,只需要作定期檢查維護,維護和能耗成本低,風(fēng)阻極低,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗,達到節(jié)能的目的。
4、UV光催化設(shè)備采用光解原理,采取了隔爆處理,消除了安全隱患、防火、防爆、防腐蝕性能高,設(shè)備性能安全穩(wěn)定,特別適用于高濃度易燃易爆廢氣的場合。
5、UV光催化設(shè)備無需惡臭氣體進行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30度~95度之間,濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作,無需添加其他物質(zhì)及藥劑參與處理。
6、UV光催化設(shè)備可根據(jù)風(fēng)量及氣體濃度的大小,進行靈活配置,采用抽屜式插拔安裝形式,配件統(tǒng)一,安裝及維護方便。備件可在線維護和更換,方便靈活
UV光氧催化激光打標打磨煙霧異味凈化裝置
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